Лекции по наноматериалам и нанотехнологиям



Pdf көрінісі
бет59/103
Дата19.12.2023
өлшемі12,63 Mb.
#197643
1   ...   55   56   57   58   59   60   61   62   ...   103
Байланысты:
Nanomateriali i nanotehnologii bak

2.8.4. Импринт – литография
 
(нанопечатная литография) 
Технология основана на прессовании резиста с последующим переносом 
рисунка на пластину полупроводника. Изображение в слое резиста создается 
физической деформацией резиста. Роль шаблона играет пресс - форма. См. рис. 
2.12.
 
Рис. 2.12. вверху: Этапы нанесения рисунка на резист. внизу: Электронные фотографии 
отверстий в резисте: после напыления. [6] 
1.На подложке 1 при помощи центрифуги создается плоскопараллельный слой 
резиста 2. 
2.Композиция нагревается до температуры размягчения отвержденного резиста. 
Штамп 3 вдавливается в слой резиста, который заполняет углубления на 
штампе. 
3.Система охлаждается до температуры ниже затвердевания резиста, и штамп 
поднимается. Возникновение на резисте выступов соответствует углублениям 
штампа. В местах, где были выступы штампа, остается слой резиста толщиной 
10-20 нм. 
4.Удаляется остаточный слой резиста ионным тралением. В окнах резиста 5 


114 
поверхность подложки оказывается открытой. 
Через окна в резите можно производить травление подложки, напыление 
металла и ли ионная имплантация, после чего резист удаляется. Время одного 
цикла 10-15 минут. Например, после импринтинга и напыления полоски металла 
имеют гладкость и острые углы, что недостижимо при традиционных методах. 
В качестве резистов используются органические термопластические материалы. 
ПММА, полистерен. Материалом для штампов используют кремний или слой 
оксида кремния 
2
SiO
на кремниевой подложке. Для рисунков с деталями 10-20 
нм применяют металлические штампы, изготовленные с помощью электронно-
лучевой литографией с последующим напылением металла на подложку в 
отверстия резита. Ширина линий от 10 нм, до нескольких мкм. Высота от 50 нм 
до сотен нм. 
Этим методом можно получать структуры с размерами до10 нм. Детали 
диаметром 10 нм на расстоянии 10 нм дают плотность записи 0,15 Тбит/см
2

На рис. 2.13 приведена электронная микрофотография полосок металла 
после импринтинга и напыления. Для полос характерны острые углы и 
гладкость. 
 
Рис. 2.13. Электронная фотография полосок металла (белые) после импринтинга и напыления. 
Ширина полос-70 нм, высота-200 нм. [6] 


Достарыңызбен бөлісу:
1   ...   55   56   57   58   59   60   61   62   ...   103




©engime.org 2024
әкімшілігінің қараңыз

    Басты бет