35
собой, то на поверхности подложки могут остаться кристаллики графена.
Монослои графита на подложке кремния/ окись кремния (
2
/
Si SiO
) со слоем
оксида толщиной 100 либо 300 нанометров обеспечивают оптический контраст
до15% до некоторых длин волн падающего света. См. рис. 1.23.
Рис. 1.23. Метод микромеханического расслоения для изготовления графена [15]
Метод химического расслоения
состоит в обработке графита кислотами с
получением
оксидов
графена
называемых
(
графон)
.
Это
графит
интеркалированный кислородными группами, которые превращают его в
гидрофильный материал, легко рассыпающийся в воде. Эти чешуйки оксида
графита, иногда однослойные, восстанавливают до низкокачественного
графена.
Микромеханическое или химическое расслоение используется для
получения других слоистых материалов.
2
2
2
x
Bi Sr CaCu O
,
2
NbSe
,
BN
,
2
MoS
,
2
3
Bi Te
и
других дихалькогенидов.
Другой подход состоит в химической модификации двумерного материала.
Графен рассматривается как гигантская молекула. В графене атомы углерода
2
sp
-гибритизированы, только три электрона образуют сильные
-связи, а
оставшийся электрон коллективизируется, образуя слабые
-связи. Графен –
полуметалл с нулевым перекрытие валентной зоны и зоны проводимости, и
хорошо проводит электрический ток. Алмаз, где каждый атом углерода
находится в
3
sp
гибритизированном состоянии, имеет четырех соседей, является
изолятором с огромной запрещенной зоной, т.к. все четыре электрона из
внешней оболочки включены в
-связи.
К настоящему времени получены две кристаллически упорядоченные
химические модификации графена:
Достарыңызбен бөлісу: