22г,д-сурет ). Электрлік цүйылысу әдістің негізінде электр өрісі пайдалана- ды. Протопластар суспензиясы екі электродтың арасьгада орна- ласады ( 23а-сурет ). Айнымалы ток диэлектрофорезді қоздыра- ды, протопластар бір-біріне тақалып бір қатарға тізіледі (236- сурет). Бұл тізбектер тек электр өрісі болған кезде тұрады. Олар- ға қосымша жеке қатты электр импульсін (600 В/см, 10-20 мксек.) бергенде ( 23в-сурет ), қатты қысылып тұрған плазмалық мембра- наларда тесіктер пайда болады да, протопластар бір-біріне қүйы- лып кетеді (23г,д-сурет). Электр өрісінің әсерінен протопластар бөлме температурасьшда және рН-тың физиологиялық мөлшері- нде нәтижелі қосылады. Қысқа қатты импульс мембранаға қысым жасап, протопласт плазмалеммалары қосылып тұрған жерде диэ- лектрлік бұзылуға себеп болады. Өзгеріліп тұрған электр өрісі Будан протопласт Будан протопласт одтар Уақыт а б в д 23-сурет. Электр өріс әсерімен протопластардың қүйылысуьіның кезендері (Уәлиханова Г.Ж., 2001 ж.) 106
мембрана ақуыздарының латеральдік диффузиясына апарады, соның арқасында ақуыздары жоқ мембрананьтн учаскелері пайда болады. Сондай кезде қарама-қарсы түрған протопластар мембра- налары әрекеттесуі мүмкін. Бунда липид молекулаларымен алма су, липид көпірлері пайда болуы мүмкін, ақырында мембраналар күйылысады. Электр өрісі көмегімен әр түрлі үлпалардың және
