Нанотехнологиялар
жүктеу/скачать 4,68 Mb. Pdf көрінісі
|
НАНОТЕХНОЛОГИЯЛАР
| ЛИТОГРАФИЯ
Стандартты кремнийлі микропроцессорлы технология жақында өзінің физикалық шегіне жететін болады. Болашақ микропроцессор- ларды жасаушыларға микрочиптағы транзисторлардың тығыздығын арттырып жаңа күшті микропроцессорлар жасау үшін жаңа техноло- гиялар табуға тура келеді. Бүгінгі таңда микропроцессорлар жасау үшін литогра фия қолданылады. Бұл технология фотографияны басып шығару принципіне, яғни жарықтың әсерінен электр сызбасы көрінісінің крем ний табақшасына проецирленуіне негізделген. Микропроцессор дың интегралды сызбасын жасау үдерісі барысында маска фотоплен ка рөлін атқарса, кремнийлі табанша - фотоқағаз рөлін атқарады. Жарық маскадан өтеді де, бірнеше линзаның көмегімен оның суреті микроскопиялық мөлшерге дейін кішірейеді және кремнийлі табаншаға түсіріледі. Табаншада жарықтың әсерінен қататын, аса сезімтал қабат фото резист орналастырылған. Жарық (мысалы, толқын ұзындығы 248 нм болатын ультракүлгін) маска арқылы өтіп, табаншаға түскенде маска- мен қорғалмаған фоторезист бөлігі қатады. Ал қалған бөлігі сумен жылдам жуылып кетеді. 9.2-суретте литография көмегімен микрочипті жасау кезіндегі іс-әрекеттер реті көрсетілген. Үдеріс жіңішке электро- сызба, яғни уландырылған жолдардан тұратын қажетті өрнек пайда болғанға дейін қайталанады. Сонымен, толқын ұзындығы 248 нм болатын жарықтың әсерінен ені 200 нм болатын жолақтары бар сызба алуға болады. Заманауи компьютерлерде миллиондаған транзисторлары бар жүздеген микро- процессорлар пайдаланылады. Микропроцессорларды өндіруші ком- паниялар, мысалы, ІПеі - микропрцессордағы транзисторлардың тығыздығын арттыру үшін олардың мөлшерін кішірейтуге тырысуда. Литографияның маңызды факторларының бірі жарықтың толқын ұзындығы болып табылады. Толқын ұзындығы қысқарған сайын, электрасызбаның табаншасында өңделген элементтер (жолақтар) кішілеу болады және транзисторлардың тығыздығы артады. Осы се- бептен Іпіеі Репііит 4 процессоры 42 млн транзистордан, ал ІПеі Репііит 3 процессоры 28 млн тұрады. 9.2-сурет. Фоторезисті әдісті қолданып, компьютер чипін жасау Литография - бұл мағынасы бойынша электрасызбанұсқаның сызуын табаншаға түсіру технологиялық үдерісі. Бұл үдерістің жетістіктері мен кемшіліктері электрасызбаның шығымы мен құны арқылы анықталады. Литографияға масканы жасау, экспозициялау, жағу және фоторезистті жуу, өңдеу және т.б. сатылар кіреді. Осы сатылардың кез келгенін қысқарту немесе өнімділігін арттыру арқылы жасалған сызбалардың құнын төмендетуге болады. Заманауи кремнийлі чиптар өте қысқа толқын ұзындықтары бар ультракүлгін жарықтың (йеер-иіігауіоіе! іііһодгарһу) әсерінен жасала- ды. Бүгінгі таңда литографияны толқын ұзындығы 10-15 нм болатын экстремалды ультракүлгін жарықты (ехігете - иіігаүіоіе! іііһодгарһу) пайдалана отырып алу мүмкіншілігі зерттелінуде. Оның көмегімен микропроцессорлардың күштілігі 100 есе жоғарылайтындай транзи- сторлар тығыздығын арттыруға болады. Кейбір ғалымдар бұл мәселе 2010 ж. шешіледі деп есептеп отыр. жүктеу/скачать 4,68 Mb. Достарыңызбен бөлісу:
|