Лекции по наноматериалам и нанотехнологиям


 Лазеры на квантовых точках



Pdf көрінісі
бет77/103
Дата19.12.2023
өлшемі12,63 Mb.
#197643
1   ...   73   74   75   76   77   78   79   80   ...   103
Байланысты:
Nanomateriali i nanotehnologii bak

3.11.7. Лазеры на квантовых точках 
Повышение степени локализации носителей заряда значительно улучшает 
характеристики лазерных диодов по сравнению с лазерами на объемных 
материалах. Это высокие коэффициенты усиления, малые значения порогового 
тока, высокая стабильность работы. Линии излучения идеального лазера на 
квантовых точках исключительно узкая (монохроматическая) и не зависит от 
температуры. 
Метод самоорганизации квантовых точек на поверхности раздела двух 
материалов с разными параметрами кристаллической решетки. Материал 
InAs
выращивается химическим осаждением паров из газовой фазы на подложке 
из кристалла с большой постоянной кристаллической решетки и большой 
шириной запрещенной зоны 
GaAs

На рис. 3.11 представлены рассчитанная зависимость коэффициента 
усиления для идеальных систем разной размерности с квантовой локализацией. 
Квантовые точки имеют максимально острые пики спектра и самые высокие 
значения коэффициента усиления. При энергии излучения 0,94 
эв
(ИК- 
диапазон) коэффициент усиления около 
1
8000
см




150 
Рис. 3.11. Спектр коэффициентов усиления для лазеров на идеальных, объемных 
полупроводниках, квантовых ямах, квантовых проволоках и квантовых точках в зависимости 
от энергии фотонов[4]. 
На рис. 3.12. представлено устройство лазера на квантовых точках. 
Структура состоит из нескольких слоев материалов образующих 
pin
- диод. Эти 
слои включают (снизу вверх) подложку 
n GaAs

, слой 
n
AlGaAs

, слой 
GaAs
с 
собственной проводимостью, содержащий квантовые точки
InAs
, слой 
p
AlGaAs

и верхний слой 
p GaAs

. Металлические контакты на подложке и верхнем слое 
соединяют структуру с внешней электрической цепью. 
Рис. 3.12. Схема устройства лазера с краевым излучением на самоорганизованных квантовых 
точках.[4]


151 
Рис. 3.13. Схема лазера на основе нанокластеров 
InAs
[2].
На рис. 3.13. показан зародышевый слой с пирамидальными квантовыми 
точками, который есть на вставке рис. 3.12. С ростом размера пирамидок 
увеличивается длина волны излучения лазера. 
При подаче прямого смещения электроны и дырки инжектируются 
(впрыскиваются) во внутренний слой 
GaAs
, они попадают в квантовые точки с 
меньшей запрещенной зоной, где происходит рекомбинация и излучение. Длин 
волны излучения соответствует межзонным переходам в квантовых точках 
InAs

Слой 
GaAs
с квантовыми точками находясь между примесными слоями
,
p n
AlGaAs

с меньшим коэффициентом преломления, локализует излучение. 
Зародышевый слой
InAs
повышает эффективность диффузии носителей в 
квантовые точки. Его ширина запрещенной зоны меньше, чем в 
GaAs
. Для 
увеличения поверхностной плотности квантовых точек используют массив с 
несколькими зародышевыми слоями с пирамидальными квантовыми точками. В 
настоящее время такие лазеры в видимом и инфракрасном диапазоне являются 
коммерческим продуктом. 


Достарыңызбен бөлісу:
1   ...   73   74   75   76   77   78   79   80   ...   103




©engime.org 2024
әкімшілігінің қараңыз

    Басты бет