16
выше, чем в магнетронном разряде с напряжением в сотни вольт, а неоднородность рас-
пыления ее поверхности не превышает 15%.
4. Установлено, что в неоднородном магнитном поле с магнитными линиями, про-
ходящими через центральную зону мишени и пересекающими сетку, катод и частично
периферию мишени, доля ионов, поступающих из плазмы на мишень, при магнитной
индукции на границе мишени
B
o
= 1 мТл повышается от 12 до 25%, а при
B
o
= 1 мТл –
до 56%, при сохранении однородности распыления 85% поверхности мишени и потоке
распыленных атомов на подложку, на порядок превышающем поток быстрых молекул
газа.
Достарыңызбен бөлісу: